特許

J-GLOBAL ID：200903017353155232

ナノ粒子の製造法および製造装置

発明者： イェルク ハルパープ ,  リハルト ファン ヘルダー ,  ベルント ザッハヴェー ,  ジークフリート ヴェルカー ,  ノルベルト ヴァーグナー ,  アンドレアス マルクヴァート ,  ゲアハルト カスパー
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (6件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-519734
公開番号（公開出願番号）：特表2008-505992
出願日： 2005年07月08日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：

本発明は、以下の工程:i)粗物質(1)の気相への変換、ii)ガス状の粗物質(1)の冷却または反応による粒子の生成およびiii)ナノ粒子の製造装置における工程ii)の粒子の生成中での粒子への電荷の付与、を包含する、ナノ粒子、殊に顔料粒子の製造法に関する。さらに本発明は、ガス流(29)を装置中に輸送するための供給部(28)、実質的に同時の粒子の生成およびナノ粒子の荷電のための粒子生成領域および荷電領域および、荷電されたナノ粒子を粒子生成領域および荷電領域から輸送するための排出部(30)を有するナノ粒子の製造装置に関する。

請求項（抜粋）：

ナノ粒子、殊に顔料粒子の製造法であって、該製造法が以下の工程: i)粗物質(1)の気相への変換、 ii)ガス状の粗物質(1)の冷却または反応による粒子の生成および iii)ナノ粒子の製造装置における工程ii)の粒子の生成中での粒子への電荷の付与 を包含する、ナノ粒子、殊に顔料粒子の製造法。

IPC (4件)：

C09B 67/02 ,  C09B 67/20 ,  C09B 67/46 ,  B01J 19/08

FI (4件)：

C09B67/02 Z ,  C09B67/20 A ,  C09B67/46 B ,  B01J19/08 K

Fターム (18件)：

4G075AA27 ,  4G075BA01 ,  4G075BB02 ,  4G075BB05 ,  4G075BB08 ,  4G075BB10 ,  4G075BD01 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA18 ,  4G075DA01 ,  4G075DA18 ,  4G075EB21 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EC25 ,  4G075FA14 ,  4G075FB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-206042
  
• 大気圧プラズマ粉体処理方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-132326   出願人：松下電工株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
• 超微粒子の製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-148006   出願人：スタンレー電気株式会社
• 特開昭59-062301