特許

J-GLOBAL ID：200903017433702897

フォトマスクの作成法、フォトマスク、並びに露光方法

発明者： 大沼 英寿
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-316803
公開番号（公開出願番号）：特開2002-122977
出願日： 2000年10月17日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 ウェーハ上の例えばゲート線幅制御性を向上できるフォトマスクの作成を可能にする。【解決手段】 フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性7に基いてマスク補正単位3を決定し、このマスク補正単位3を用いてフォトマスク作成用の設計データ1に対する補正を行い、描画装置を用いてフォトマスクを作成する。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィ工程及びエッチング工程を経て得られたパターンのスペース依存性に基いてマスク補正単位を決定し、該マスク補正単位を用いてフォトマスク作成用の設計データに対する補正を行うことを特徴とするフォトマスクの作成法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 514 C

Fターム (5件)：

2H095BB01 ,  5F046AA26 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05 ,  5F046DD03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• マスクパターン補正方法及び該補正方法に用いられる露光マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-236849   出願人：株式会社東芝
• 検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-207829   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭62-263633
  
• マスクパターン設計方法及びフォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-065107   出願人：株式会社東芝