特許
J-GLOBAL ID:200903017467786607

撮像素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 佐野 静夫 ,  山田 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-134075
公開番号(公開出願番号):特開2007-305867
出願日: 2006年05月12日
公開日(公表日): 2007年11月22日
要約:
【課題】撮像素子等に含まれるマイクロレンズの製造方法を提供する。【解決手段】マイクロレンズ形成工程は、熱により隆起部BGに支えられるレンズ材料膜32を溶かし、溝部DHにレンズ材料膜32の一部を流し込むことで、隆起部BGに支えられるレンズ材料膜32の形状を変化させ、マイクロレンズMSを生じさせている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に支えられる下地層の面内で隣り合うように形成されている隆起部および溝部のうち、隆起部に支えられているレンズ層を用いてマイクロレンズを生じさせるマイクロレンズの製造方法にあって、 熱により上記隆起部に支えられるレンズ層を溶かし、上記溝部にレンズ層の一部を流し込むことで、隆起部に支えられるレンズ層の形状を変化させ、マイクロレンズを生じさせるマイクロレンズ形成工程を、 少なくとも有しているマイクロレンズの製造方法。
IPC (1件):
H01L 27/14
FI (1件):
H01L27/14 D
Fターム (8件):
4M118AB01 ,  4M118CA02 ,  4M118CA32 ,  4M118FA06 ,  4M118GD04 ,  4M118GD06 ,  4M118GD07 ,  4M118GD20
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る