特許
J-GLOBAL ID：200903033002054737
CMOSイメージセンサの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
三枝 英二
, 舘 泰光
, 眞下 晋一
, 松本 公雄
, 立花 顕治
, 井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-016573
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235635
出願日： 2004年01月26日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】 マイクロレンズのフロー工程で隣接するマイクロレンズが互いに繋がるブリッジ現象を防止し、マイクロレンズの大きさや高さなどのサイズに対する均一性を向上させることのできるCMOSイメージセンサの製造方法を提供すること。 【解決手段】 複数の画素構造が形成された基板20のカラーフィルタ26上面に、感光膜からなるオーバーコーティング層27を形成し、フォトリソグラフィ工程によって、カラーフィルタ26が隣接する領域上のオーバーコーティング層27に凹部27aを形成し、凹部27aに囲まれた各画素領域におけるオーバーコーティング層27上面に角形マイクロレンズ28を形成し、熱処理を施してこれをフローさせ、マイクロレンズ28aを形成する。【選択図】 図2D
請求項（抜粋）：
それぞれがフォトダイオード及びその上方にカラーフィルタを有する複数の画素構造が配列して形成された基板の前記カラーフィルタ上面に、ポジ型感光膜からなるオーバーコーティング層を形成するオーバーコーティング層形成ステップと、
バイナリマスクを利用したフォトリソグラフィ工程によって前記オーバーコーティング層を露光及び現像し、前記カラーフィルタが隣接する領域上の前記オーバーコーティング層に凹部を形成する凹部形成ステップと、
該凹部に囲まれた各画素領域における前記オーバーコーティング層上面に角形マイクロレンズを形成する角形マイクロレンズ形成ステップと、
熱処理を施して前記角形マイクロレンズをフローさせ、マイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成ステップと
を含んでいることを特徴とするCMOSイメージセンサの製造方法。
IPC (4件)：
H01L27/14
, G02B3/00
, H01L27/146
, H04N5/335
H01L27/14 D
, G02B3/00 A
, G02B3/00 Z
, H04N5/335 E
, H04N5/335 U
, H01L27/14 A
4M118AA01
, 4M118AA04
, 4M118AB01
, 4M118BA14
, 4M118CA02
, 4M118EA01
, 4M118EA20
, 4M118FA06
, 4M118FA27
, 4M118FA28
, 4M118GC08
, 4M118GD04
, 4M118GD07
, 5C024CY47
, 5C024EX43
, 5C024EX52
, 5C024GX03
, 5C024GY31
