特許

J-GLOBAL ID：200903017492910703

ドライエッチング装置

発明者： 大倉 英一郎 ,  豊田 正人 ,  中谷 康雄
出願人/特許権者： 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-252094
公開番号（公開出願番号）：特開平8-120469
出願日： 1994年10月18日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：

【要約】【目的】 熱歪により生じる電極板と電極ボディとの隙間に起因して生じる放電を防止するドライエッチング装置を得る。【構成】 電極ボディ5と接触する上部電極3の表面にリング形状の溝が設けられており、その溝に接地材12をはめ込み、機械的弾性を有した接地材12と電極ボディ5が接触するように、電極ボディ5の下面に上部電極3がネジ6によって、固定されている。【効果】 エッチング処理中のプラズマ加熱により、上部電極に熱歪が生じ、上部電極と電極ボディとの接触面に隙間が生じた場合でも、接地材がその弾性により両者間を電気的に接続し、隙間中に放電が生じないドライエッチング装置が得られる。

請求項（抜粋）：

処理室と、前記処理室内に配置された電極と、前記電極を支持する支持部材と、前記電極と前記支持部材との間に介挿された機械的弾性を有した導電材と、を備えたドライエッチング装置。

IPC (3件)：

C23F 4/00 ,  C23F 1/00 101 ,  H01L 21/3065

引用特許：

出願人引用 (5件)

• プラズマ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-260288   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-321842   出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
• ドライエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-129168   出願人：日新電機株式会社
• 特開平4-354876
  
• 特開昭61-267326