特許
J-GLOBAL ID：200903017519925066
表面検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
藤本 昇
, 薬丸 誠一
, 中谷 寛昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-158080
公開番号（公開出願番号）：特開2009-300377
出願日： 2008年06月17日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】半導体素子の光軸の向きを迅速かつ精度よく調整することができる表面検査装置を提供する。【解決手段】ケーシング10内に、レーザ光を照射するための複数の半導体素子13,14を間隔を置いて配置し、前記複数の半導体素子13,14の前方に、該半導体素子13,14からの光を半導体素子並設方向と交差する方向に細長く伸ばして被照射体にライン光を照射するためのレンズ15,15を配置した表面検査装置であって、前記配置した全ての半導体素子13,14の前方に跨るように前記レンズ15,15を配置し、前記複数の半導体素子13,14の光軸の向きを半導体素子並設方向でそれぞれ独立して調整するべく、該半導体素子13,14の角度を調整するための調整手段19K,19Kを備えた。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
ケーシング内に、光を照射するための複数の半導体素子を間隔を置いて配置し、前記複数の半導体素子の前方に、該半導体素子からの光を半導体素子並設方向と交差する方向に細長く伸ばして被照射体にライン光を照射するためのレンズを配置した表面検査装置であって、
前記配置した全ての半導体素子の前方に跨るように前記レンズを配置し、前記複数の半導体素子の光軸の向きを半導体素子並設方向でそれぞれ独立して調整するべく、該半導体素子の角度を調整するための調整手段を備えたことを特徴とする表面検査装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N21/84 E
, G01N21/84 D
, G01B11/24 M
2F065AA46
, 2F065AA65
, 2F065BB05
, 2F065CC11
, 2F065GG06
, 2F065GG14
, 2F065HH05
, 2F065HH14
, 2F065JJ12
, 2F065LL08
, 2F065LL10
, 2G051AA89
, 2G051AB10
, 2G051BA10
, 2G051BB09
, 2G051CA11
, 2G051CB01
