特許
J-GLOBAL ID：200903017550633529
走査電子顕微鏡
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-159062
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338601
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】微調整からレビューまでを完全に自動化で行なえる走査型電子顕微鏡を提供する。【解決手段】座標補正後の補正精度を算出し、ベクトル39を用いて表示する機能、得られた情報から座標補正後異物/欠陥を自動検出する際の探索時の倍率を自動で決定する機能、また探索倍率と測定条件から異物/欠陥の出現率とかかる時間を算出する機能を設けた。
請求項（抜粋）：
試料を保持して移動する移動ステージを有し、他の装置で取得された前記試料上の特徴物に関する座標値を座標補正式で補正して得られた補正座標値に前記移動ステージを移動して前記特徴物を観察する機能を有する走査電子顕微鏡において、前記補正座標値と実際に前記特徴物が観察された座標値とに基づいて前記座標補正式の補正精度を算出する機能を有することを特徴とする走査電子顕微鏡。
IPC (3件)：
H01J 37/28
, G01N 23/225
, H01J 37/20
H01J 37/28 B
, G01N 23/225
, H01J 37/20 D
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001FA06
, 2G001FA08
, 2G001GA04
, 2G001GA06
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001JA07
, 2G001JA20
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 5C001AA01
, 5C001AA03
, 5C001CC04
, 5C033UU04
, 5C033UU06
, 5C033UU08
出願人引用 (3件)
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半導体ウェーハの表面異物検査方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-181209
出願人：コマツ電子金属株式会社
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異物観察装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-027797
出願人：株式会社日立製作所
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走査電子顕微鏡
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-335915
出願人：株式会社日立製作所
審査官引用 (2件)
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