特許
J-GLOBAL ID：200903017604378708

透明導電膜形成方法、該方法により形成された透明導電膜および該透明導電膜を有する物品

発明者：
辻 稔夫

辻 稔夫 について

, 
伊藤 博人

伊藤 博人 について

, 
清村 貴利

清村 貴利 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-167088
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234028
出願日： 2002年06月07日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】 安全性が高く、生産性に優れ、良好な光学及び電気特性、プラスチックフィルム基材上での優れた限界曲率半径を有する透明導電膜の形成方法、該方法によって形成された透明導電膜および該透明導電膜を有する物品を提供する。【解決手段】 大気圧または大気圧近傍の圧力下で、反応性ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法において、前記反応性ガスが、還元ガスを含有する。
請求項（抜粋）：
大気圧または大気圧近傍の圧力下で、反応性ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法において、前記反応性ガスが、還元ガスを含有することを特徴とする透明導電膜形成方法。
IPC (8件)：
H01B 13/00 503 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/505 ,  C23C 16/513 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 5/14 ,  H01M 14/00
FI (8件)：
H01B 13/00 503 B ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/505 ,  C23C 16/513 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 5/14 A ,  H01M 14/00 P
Fターム (55件)：
2H090JA06 ,  2H090JB03 ,  2H090JC04 ,  2H090JD01 ,  2H090LA01 ,  2H092HA04 ,  2H092MA08 ,  2H092NA01 ,  2H092NA28 ,  2H092PA01 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BD14 ,  4G075CA14 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4G075EC21 ,  4G075FC11 ,  4K030AA17 ,  4K030BA35 ,  4K030BA42 ,  4K030BA45 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA09 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA17 ,  4K030KA30 ,  4K030LA01 ,  4K030LA11 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC03 ,  5G307FC09 ,  5G323BA02 ,  5G323BB03 ,  5G323BC02 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB05 ,  5H032BB07 ,  5H032EE02 ,  5H032EE04 ,  5H032EE07 ,  5H032HH00 ,  5H032HH01 ,  5H032HH06 ,  5H032HH08
引用特許：
審査官引用 (4件)
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