特許

J-GLOBAL ID：200903017605386585

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 浅野 徹
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-240679
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059887
出願日： 2001年08月08日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 基板に対して速やかにパーティクルの分布状態の検出を行うことにより、基板を確実に洗浄することが可能な基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 カセットに収納された複数枚の基板のうちの一部の基板の裏面を洗浄してその裏面のパーティクルの分布状態を検出した後、パーティクルの分布状態に基づいて基板の洗浄条件を変更し、しかる後に、カセットに収納された複数枚の基板の裏面を変更後の洗浄条件で洗浄する。次に、カセットに収納された複数枚の基板のうちの一部の基板の表面を洗浄してその表面のパーティクルの分布状態を検出した後、パーティクルの分布状態に基づいて基板の洗浄条件を変更し、しかる後に、カセットに収納された複数枚の基板の表面を変更後の洗浄条件で洗浄する

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を収納したカセットを載置するインデクサ部と、基板を洗浄する洗浄部と、基板に付着したパーティクル分布状態を検出するパーティクル検査部と、基板を前記インデクサ部、前記洗浄部および前記パーティクル検査部の間で搬送する搬送部とを備えた基板処理装置を使用して基板を処理する基板洗浄方法であって、前記カセットに収納された複数枚の基板のうちの一部の基板を前記洗浄部に搬送して洗浄する第1洗浄工程と、前記洗浄部において洗浄された基板を前記パーティクル検査部に搬送してパーティクルの分布状態を検出するパーティクル検出工程と、前記パーティクル検査部により検出したパーティクルの分布状態に基づいて、前記洗浄部による基板の洗浄条件を変更する洗浄条件変更工程と、前記カセットに収納された複数枚の基板を前記洗浄部に搬送して変更後の洗浄条件で洗浄する第2洗浄工程と、を備えたことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (8件)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304 645 ,  C03C 23/00 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (8件)：

H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 644 C ,  H01L 21/304 645 B ,  C03C 23/00 A ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (10件)：

2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA21 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB01 ,  2H090JC19 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-268500   出願人：松下電器産業株式会社
• 板状ワークの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-004522   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社