特許
J-GLOBAL ID：200903017729017880

液処理装置および液処理方法

発明者：
佐田 徹也

佐田 徹也 について

, 
宮崎 一仁

宮崎 一仁 について

, 
篠木 武虎

篠木 武虎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204170
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017401
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：
【要約】【課題】 大型の基板であっても基板全体で均一な液処理を行うことができる液処理装置と液処理方法を提供する。【解決手段】 液処理装置の一実施形態である現像処理ユニット(DEV)24は、基板Gに現像液を塗布する第1の現像液供給ゾーン24bと、現像液が塗布された基板Gから現像液を除去する液切り/リンスゾーン24dと、基板Gを略水平姿勢で一方向に搬送するコロ搬送機構14とを有する。液切り/リンスゾーン24dでは、基板Gを傾斜姿勢として現像液を流し出し、その後に傾斜姿勢に保持された基板Gの表面に沿ってリンス液吐出ノズル52を所定速度で移動させながらリンス液を基板Gに供給する。液切り/リンスゾーン24dでは短時間で現像液が基板Gから除去できることから、現像むらの発生が防止されて、線幅均一性が高められる。
請求項（抜粋）：
基板に対して所定の液処理を施す液処理装置であって、略水平姿勢に保持された基板に処理液を塗布する第1液処理部と、前記処理液が塗布された基板から前記処理液を液切りする第2液処理部と、前記第1液処理部から前記第2液処理部へ基板を略水平姿勢で一方向に搬送する基板搬送機構と、を具備し、前記第1液処理部は、前記基板搬送機構による基板搬送方向の前方から後方に向けて前記基板に前記処理液を塗布する処理液供給機構を有し、前記第2液処理部は、前記処理液が塗布された基板の搬送方向の前方を持ち上げて前記基板を傾斜姿勢に変換することによって前記基板に塗布された処理液を液切りする基板傾斜機構を有することを特徴とする液処理装置。
IPC (10件)：
H01L 21/027 ,  B05B 13/04 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/00 ,  B65G 49/06 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68
FI (11件)：
B05B 13/04 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/00 C ,  B65G 49/06 Z ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/306 J
Fターム (59件)：
2H096AA27 ,  2H096GA21 ,  4D075AC02 ,  4D075AC11 ,  4D075AC77 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075AC94 ,  4D075BB65Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F035AA01 ,  4F035AA03 ,  4F035CA02 ,  4F035CA05 ,  4F035CB03 ,  4F035CB13 ,  4F035CB26 ,  4F035CD03 ,  4F035CD13 ,  4F035CD16 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA05 ,  4F041BA12 ,  4F041BA59 ,  4F041CA02 ,  4F041CA28 ,  4F042AA02 ,  4F042AA10 ,  4F042BA10 ,  4F042BA11 ,  4F042CC04 ,  4F042CC09 ,  4F042DF19 ,  4F042DF35 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA18 ,  5F031GA35 ,  5F031GA53 ,  5F031MA23 ,  5F043AA40 ,  5F043CC12 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046LA11 ,  5F046LA14
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • 基板の処理方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-148021   出願人：スピードファムクリーンシステム株式会社
  • 基板処理装置及び処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-046355   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-232435   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (7件)
  • 特開平4-196519
  • 液処理装置の基板搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-126743   出願人：シャープ株式会社
  • 基板表面処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-173300   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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