基板処理装置及び処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：影井俊次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-046355
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252200
出願日： 2001年02月22日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】基板を傾斜搬送する間に所定の液処理を行うに当って、基板や搬送手段に摩耗や損傷等を生じさせたりすることなく円滑に搬送する。【解決手段】第1の処理ステージ10の入口部では基板Wを下り勾配傾斜搬送路DS1 から水平搬送路LSとし、この水平搬送路LSの間に第1の処理液供給ノズル11から処理液を供給し、水平搬送経路LSから上り勾配傾斜搬送路US1 に転換させて、基板Wから処理液を第1の処理ステージ10内に回収する。第2の処理ステージ20に移行すると、下り勾配傾斜搬送路DS2 とし、その間に純水供給ノズル21から純水を供給する。第3の処理ステージ30では基板Wを上り勾配傾斜搬送路US2 とし、その間に洗浄水噴射ノズル31,32から基板Wの表裏両面に洗浄水を噴射する。第4の処理ステージ40では、上り勾配傾斜搬送路US2 の状態を維持し、基板Wの上下両側に配置したエアナイフノズル41,42によりその表裏両面を乾燥させる。

請求項（抜粋）：

基板を搬送する搬送手段と、この搬送手段に対向配設され、前記基板に対してウエット処理を行うために前記基板の表面に処理液を供給する液供給手段とを備えた基板処理装置において、前記搬送手段は、少なくともその一部に前記基板の搬送方向に向けて上り勾配または下り勾配となるように傾斜した状態で搬送する傾斜搬送路を含む構成としたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (9件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 651 , B08B 3/02 , B65G 13/00 , B65G 49/06 , H01L 21/027 , H01L 21/306 , H01L 21/68

FI (9件)：

H01L 21/304 648 A , H01L 21/304 643 B , H01L 21/304 651 L , B08B 3/02 C , B65G 13/00 Z , B65G 49/06 Z , H01L 21/68 A , H01L 21/30 569 D , H01L 21/306 J

Fターム (23件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB14 , 3B201AB40 , 3B201BB21 , 3B201BB92 , 3B201BB95 , 3B201CC12 , 3B201CD22 , 3F033BB01 , 3F033BC01 , 5F031CA05 , 5F031FA02 , 5F031FA18 , 5F031GA53 , 5F031MA23 , 5F043BB27 , 5F043EE07 , 5F043EE33 , 5F043EE36 , 5F043EE40 , 5F043GG10 , 5F046LA11

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板表面処理装置、基板表面処理方法、表面伝導型電子源基板および画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-050678 出願人：キヤノン株式会社
基板表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-173300 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
超音波洗浄方法およびその洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-112531 出願人：株式会社芝浦製作所

全件表示

前のページに戻る