特許
J-GLOBAL ID：200903017746511006
基板熱処理装置および基板熱処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050392
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252227
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 装置の校正時期を検知することができ、温度計測の誤差を抑えて高品質の熱処理が行える基板熱処理装置および基板熱処理方法を提供する。【解決手段】 放射強度I1,I2を用いて、基板の放射率εWを算出し、それを基準放射率εrefとする(ステップS4)とともに、モニタ実効反射率Rmを算出し、それを基準実効反射率Rmrとする(ステップS5)。最初以外の基板について得られた放射強度I1,I2からモニタ実効反射率Rmを算出する(ステップS6)。モニタ実効反射率Rmの基準実効反射率Rmrからの変化量と変化量閾値Rthを比較し(ステップS7)、前者が大きければ熱処理を行い(ステップS10)、小さければ再校正が必要である旨を表示し(ステップS8)、作業者は装置を再校正後、基板を交換し(ステップS9)、各基板についてステップS1〜S11を繰り返す。
請求項（抜粋）：
基板に加熱を伴う処理を施す基板熱処理装置であって、基板を保持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板を加熱する加熱手段と、前記保持手段に保持された基板に対向する反射面を有する反射板と、前記保持手段に保持された基板が前記加熱手段により加熱された際に、前記反射板の反射面と前記保持手段に保持された基板とに反射された放射光を捉えて放射強度を出力する検出手段と、前記検出手段により出力された放射強度に基づいて、第1の時期において第1モニタ実効反射率を算出するとともに、第2の時期において第2モニタ実効反射率を算出する実効反射率算出手段と、前記実効反射率算出手段により第1の時期において算出された第1モニタ実効反射率を基準実効反射率として記憶する記憶手段と、前記実効反射率算出手段により第2の時期において算出された前記第2モニタ実効反射率と前記記憶手段に記憶されている前記基準実効反射率との差を所定の閾値と比較する比較手段と、前記比較手段の比較結果により、前記第2モニタ実効反射率と前記基準実効反射率との差が所定の閾値より大きいと判断された場合に、校正が必要である旨を報知する報知手段と、を備えたことを特徴とする基板熱処理装置。
引用特許：
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