特許
J-GLOBAL ID：200903017781004869
金属精密加工用感光性フィルム及びこれを用いたパターン製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-307822
公開番号（公開出願番号）：特開平10-148938
出願日： 1996年11月19日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 感光性フィルムの下地金属(特に鉄を含む合金)への密着性、耐エッチング性、耐薬品性に優れた金属精密加工用感光性フィルム及びこれを用いたパターン製造方法を提供する。【解決手段】 A)カルボキシル基を含有するバインダーポリマー、(B)光重合開始剤、(C)分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(D)下記一般式Iで表されるイソシアネート化合物(式中、R1はm価の有機基を表し、mは1〜6の整数を表す。)とこれと反応し得る、ジケトン類、オキシム類、フェノール類、アルカノール類及びカプロラクタム類から選ばれる少なくとも一種のブロック剤とから得られる一般式IIで表されるブロックイソシアネート化合物を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を支持体上に形成してなる金属精密加工用感光性フィルム及びこれを用いたパターン製造方法。
請求項（抜粋）：
(A)カルボキシル基を含有するバインダーポリマー、(B)光重合開始剤、(C)分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び(D)下記一般式Iで表されるイソシアネート化合物(式中、R1はm価の有機基を表し、mは1〜6の整数を表す。)とこれと反応し得る、ジケトン類、オキシム類、フェノール類、アルカノール類及びカプロラクタム類から選ばれる少なくとも一種のブロック剤とから得られる一般式IIで表されるブロックイソシアネート化合物(式中、R1及びmは前記と同じ意味を表し、R2は一般式Iで表されるイソシアネート化合物とこれと反応し得るブロック剤が反応した際に得られるブロック剤の残基を表す。)を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を支持体上に形成してなる金属精密加工用感光性フィルム。【化1】
IPC (8件)：
G03F 7/035
, C08G 18/67
, C08G 18/79
, C08G 18/80
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, H01L 23/50
, H05K 3/06
G03F 7/035
, C08G 18/67
, C08G 18/79 A
, C08G 18/80
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, H01L 23/50 A
, H05K 3/06 J
