特許
J-GLOBAL ID：200903017810130674
光回路およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118651
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304664
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 半導体レーザと光導波路とを光学的に高効率に結合するためのレンズを形成して、低コスト化と、温度変化および振動衝撃などに対する高信頼性とを得ることができる光回路およびその製造方法を提供することである。【解決手段】 基板5の一面上に半導体レーザ8と共に形成され半導体レーザ8から出射される放射光を受けて光学的に結合する石英系光光導波路4の端面部分において、上層クラッド1および下層クラッド3を除去しコア2を露出してコア突出部(6)を形成し、次いで、このコア突出部(6)を熱によるリフローイング(Reflowing )によりレンズ機能を有する半球状に成形して、スポットサイズ変換機能レンズとしてのコア突出部(レンズ)6を形成している。
請求項（抜粋）：
シリコン基板上に形成された石英系光導波路に半導体レーザから出射された放射光を光学的に結合する光回路において、前記石英系光導波路が、前記半導体レーザの放射光を受ける端面にレンズ機能を有する半球状の露出したコア突出部を有することを特徴とする光回路。
IPC (4件)：
G02B 6/42
, G02B 6/30
, G02B 6/32
, H01S 3/18
G02B 6/42
, G02B 6/30
, G02B 6/32
, H01S 3/18
