自己診断機能による高精度外観検査装置及びその制御方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：開口宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-011439
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216207
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】長時間を要する外観検査工程において生じた障害によるデータ損失などのリスクを未然に回避することができる高精度外観検査装置及びその制御方法を提供することを目的とする。【解決手段】画像処理ユニット9が複数のチャネル101を有し、CPU1が所定時間毎又は所定の検査単位毎に各機能のチェックを行う。その際、前記外観検査工程において障害が発生したときにそれまでの検査結果をメモリ8に保存して検査を終了し、前記障害の発生部位が画像処理ユニット9であれば、係る画像処理ユニット9の障害発生チャネルを切り離し、他のチャネルにて処理を行う。

請求項（抜粋）：

CPUと、被検査部品を検査する光学系駆動機構を制御するためのデータを格納するメモリと、検査結果のデータを格納するメモリと、そのデータを処理する画像ユニットと、被検査部品の設計データを編集するデータベースアダプタとを有する外観検査装置において、画像処理ユニットが複数のチャネル構造を有することを特徴とする外観検査装置。

IPC (3件)：

H01L 21/66 , G01N 21/88 , G06T 7/00

FI (3件)：

H01L 21/66 J , G01N 21/88 645 A , G06F 15/62 405 A

Fターム (22件)：

2G051AA56 , 2G051AB03 , 2G051AB04 , 2G051CB01 , 2G051EA14 , 2G051EA19 , 2G051EA20 , 2G051EA30 , 4M106AA09 , 4M106BA20 , 4M106CA38 , 4M106DB20 , 4M106DB30 , 4M106DH12 , 4M106DH32 , 4M106DJ01 , 4M106DJ11 , 4M106DJ21 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA12 , 5B057DA03

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭60-062122
画像処理装置及び画像処理方法及び半導体パッケージ外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-161785 出願人：株式会社日立製作所, 日立米沢電子株式会社
パターン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-217674 出願人：株式会社ニコン

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