特許
J-GLOBAL ID：200903017888873070
シリコン微粒子の製造方法および酸化チタン微粒子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-019701
公開番号（公開出願番号）：特開2006-206371
出願日： 2005年01月27日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】 受光素子や発光素子等に好適に使用できるシリコン微粒子および酸化チタン微粒子を、簡易にかつ生産性良く製造可能な製造方法を提供すること。 【解決手段】 シリコン微粒子の製造方法は、シリコンの水素化物を含む原料ガスを、タングステン,タンタル,炭素,モリブデンおよびチタンのうちのいずれか一種またはその化合物から成る加熱触媒に接触させてシリコンの水素化物からシリコンを解離させるとともに、原料ガスの圧力を解離したシリコンが凝集可能な高圧とすることによって、解離したシリコンを凝集させてシリコン微粒子を形成する。これにより、シリコンの凝集が促進されて効率よくシリコン微粒子が形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
シリコンの水素化物を含む原料ガスを、タングステン,タンタル,炭素,モリブデンおよびチタンのうちのいずれか一種またはその化合物から成る加熱触媒に接触させて前記シリコンの水素化物からシリコンを解離させるとともに、前記原料ガスの圧力を解離したシリコンが凝集可能な高圧とすることによって、解離したシリコンを凝集させてシリコン微粒子を形成することを特徴とするシリコン微粒子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (20件)：
4G047CA02
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G047CD04
, 4G072AA01
, 4G072BB05
, 4G072DD07
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH03
, 4G072HH04
, 4G072KK11
, 4G072KK20
, 4G072LL03
, 4G072MM01
, 4G072RR01
, 4G072RR11
, 4G072TT01
, 4G072UU30
