特許
J-GLOBAL ID：200903018008994120
光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-108838
公開番号（公開出願番号）：特開2007-278984
出願日： 2006年04月11日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：
【課題】 埃等の影響を抑制することが可能な光測定装置、光測定方法、及び光測定プログラムを提供する。【解決手段】 マイクロプレート20などの試料保持部材によって保持された状態の試料からの蛍光を測定する蛍光測定装置1を、試料から放出される蛍光による2次元の蛍光画像を取得する画像取得部40と、蛍光画像を含む測定データに対して解析処理を行うデータ解析装置50とを備えて構成する。そして、蛍光画像について設定される測定領域に対して、所定条件下で取得された参照画像の測定領域内での光強度分布を光強度閾値と比較することで測定除外領域を抽出し、測定領域から測定除外領域を除いた領域を解析領域に設定して、蛍光画像の解析処理を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料保持部材によって保持された状態で測定位置に配置された試料からの光を測定する光測定装置であって、
試料から放出される光を含む2次元の光検出画像を取得する画像取得手段と、
前記光検出画像を含む測定データに対して解析処理を行うデータ解析手段とを備え、
前記データ解析手段は、
前記画像取得手段によって取得された前記光検出画像に対して光測定に用いる測定領域を設定する測定領域設定手段と、
前記画像取得手段によって所定条件下で取得された参照画像を用い、前記参照画像の前記測定領域内での2次元の光強度分布を所定の光強度閾値と比較して測定除外領域を抽出する除外領域抽出手段と、
前記測定領域から前記測定除外領域を除くことによって前記光検出画像に対する解析領域を設定し、前記解析領域内での光強度を解析データとして、前記試料についての解析処理を行う解析処理手段と
を有することを特徴とする光測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/64 Z
, G01N21/03 Z
2G043AA03
, 2G043BA16
, 2G043CA04
, 2G043EA01
, 2G043EA02
, 2G043EA06
, 2G043GA07
, 2G043GB18
, 2G043HA05
, 2G043JA02
, 2G043LA03
, 2G043MA01
, 2G043MA06
, 2G043NA01
, 2G043NA06
, 2G057AA04
, 2G057AA14
, 2G057BA03
, 2G065AB11
, 2G065BA05
, 2G065BB26
, 2G065BC13
, 2G065BC14
, 2G065BC33
, 2G065BD03
, 2G065CA05
, 2G065CA29
, 2G065DA08
出願人引用 (1件)
審査官引用 (3件)
-
蛍光輝度測定方法及び装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-342190
出願人：オリンパス光学工業株式会社
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生化学的検査方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-092634
出願人：オリンパス株式会社
-
外観検査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-135259
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
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