特許
J-GLOBAL ID：200903018100154864
超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岸田 正行
, 水野 勝文
, 高野 弘晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-260369
公開番号（公開出願番号）：特開2007-070700
出願日： 2005年09月08日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】 超高分子量ポリエチレンにダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を密着させて被覆させ、DLC膜の剥離を防止し、超高分子量ポリエチレンにDLCを成膜する。 【解決手段】 超高分子量ポリエチレンをプラズマ照射によって改質した後、表面改質した超高分子量ポリエチレン上にDLC膜を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
超高分子量ポリエチレンをプラズマ照射によって改質した後、前記超高分子量ポリエチレン上に無機膜を形成することを特徴とする超高分子量ポリエチレンへの無機膜形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4K030AA10
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030DA02
, 4K030FA03
, 4K030JA01
