特許
J-GLOBAL ID:200903018115092679
水性媒体内でのガス化による放射性グラファイトの破壊方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-551230
公開番号(公開出願番号):特表2005-512073
出願日: 2002年12月10日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
本発明は、放射性物質によって汚染された放射性グラファイトの処理方法に関するものである。本発明による方法においては、放射性グラファイトを、水を含有した媒体内に浸漬し;電気アークを発生させ得るような、かつ、水分子の結合を破壊し得るような、かつ、グラファイトの炭素-炭素結合を破壊し得るような、十分に大きなエネルギーを有した高電圧パルスを、放射性グラファイトに対して印加し;この高電圧パルスの数を、グラファイトをガスへと変換し得るものとして、決定する。
請求項(抜粋):
放射性物質によって汚染された放射性グラファイトの処理方法であって、
前記放射性グラファイトを、水を含有した媒体内に浸漬し;
電気アークを発生させ得るような、かつ、水分子の結合を破壊し得るような、かつ、前記グラファイトの炭素-炭素結合を破壊し得るような、十分に大きなエネルギーを有した高電圧パルスを、前記放射性グラファイトに対して印加し;
この高電圧パルスの数を、前記グラファイトをガスへと変換し得るものとして、決定する;
ことを特徴とする処理方法。
IPC (2件):
FI (3件):
G21F9/30 Z
, B01J19/08 C
, B09B5/00 T
Fターム (22件):
4D004AA16
, 4D004AB09
, 4D004AC05
, 4D004CA44
, 4D004CA50
, 4D004CC03
, 4D004DA03
, 4D004DA20
, 4G075AA03
, 4G075AA22
, 4G075AA37
, 4G075AA61
, 4G075AA62
, 4G075BA06
, 4G075BB03
, 4G075BB05
, 4G075BD16
, 4G075CA17
, 4G075CA51
, 4G075CA54
, 4G075CA63
, 4G075DA18
引用特許:
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