特許
J-GLOBAL ID:200903018215037608
マイクロ流路デバイス及びマイクロ流路デバイスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野口 恭弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-080768
公開番号(公開出願番号):特開2008-238313
出願日: 2007年03月27日
公開日(公表日): 2008年10月09日
要約:
【課題】対流の発生を抑制し、意図しない流体同士の混合や、流体内の粒子の偏在が生じにくいマイクロ流路デバイスを提供すること。さらに、前記マイクロ流路デバイスの好適な製造方法を提供すること。【解決手段】複数の流体が層流を形成して送流されるマイクロ流路を有し、該マイクロ流路の内壁に、流体の流れと略平行であり、かつ、前記複数の流体が形成する界面に対して略垂直方向に突出する凸部を有することを特徴とするマイクロ流路デバイス。前記マイクロ流路は湾曲部を有し、前記凸部は、マイクロ流路の湾曲部に設けられていることが好ましい。【選択図】図2
請求項(抜粋):
複数の流体が層流を形成して送流されるマイクロ流路を有し、
該マイクロ流路の内壁に、流体の流れと略平行であり、かつ、前記複数の流体が形成する界面に対して略垂直方向に突出する凸部を有することを特徴とする
マイクロ流路デバイス。
IPC (4件):
B81B 1/00
, B01J 19/00
, B81C 3/00
, G01N 37/00
FI (4件):
B81B1/00
, B01J19/00 321
, B81C3/00
, G01N37/00 101
Fターム (20件):
3C081AA01
, 3C081BA08
, 3C081BA11
, 3C081BA23
, 3C081CA05
, 3C081CA30
, 3C081CA32
, 3C081DA11
, 3C081EA26
, 3C081EA37
, 4G075AA02
, 4G075AA39
, 4G075BA10
, 4G075DA02
, 4G075EB50
, 4G075EC09
, 4G075EC11
, 4G075EE03
, 4G075EE12
, 4G075FB02
引用特許:
出願人引用 (2件)
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マイクロ流体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-195886
出願人:セイコーインスツル株式会社
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マイクロ流路
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-097896
出願人:株式会社日立製作所
審査官引用 (3件)
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マイクロ流路
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-097896
出願人:株式会社日立製作所
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マイクロ流体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-382120
出願人:富士ゼロックス株式会社
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反応装置及び反応方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-001120
出願人:株式会社神戸製鋼所
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