特許

J-GLOBAL ID：200903090175886634

マイクロ流体素子

発明者： 山田 高幸 ,  田畑 和章 ,  高橋 睦也 ,  山崎 芳文
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 平田 忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-382120
公開番号（公開出願番号）：特開2006-187684
出願日： 2004年12月28日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：

【課題】 対象流体の反応等の処理に対して最適な処理環境を付与することが可能なマイクロ流体素子を提供する。【解決手段】 2つの原料液L1,L2を導入する第1のパターン層13Aと、原料液L1,L2が合流する合流部を有する第2のパターン層13Bと、原料液L1,L2を反応させて反応液Mを得る反応部を有する第4のパターン層13Dと、恒温水W1を流して第4のパターン層13Dの反応部30を一定温度に保つ第3および第5のパターン層13C,13Eと、反応液Mを洗浄する洗浄部を有する第6のパターン層13Fとを積層する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

対象流体に対して所定の処理を行う処理層と、 前記処理層に接して設けられ、前記処理層に所定の温度環境を付与する温度制御層とを備えたことを特徴とするマイクロ流体素子。

IPC (3件)：

B01J 19/00 ,  B81B 1/00 ,  F17D 1/08

FI (3件)：

B01J19/00 321 ,  B81B1/00 ,  F17D1/08

Fターム (24件)：

3J071AA11 ,  3J071CC02 ,  3J071CC03 ,  3J071DD04 ,  3J071DD26 ,  3J071EE03 ,  3J071FF11 ,  4G075AA02 ,  4G075AA13 ,  4G075AA39 ,  4G075AA45 ,  4G075AA63 ,  4G075BA10 ,  4G075BB01 ,  4G075BB05 ,  4G075BD15 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB50 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• マイクロチップパイルアップ型化学反応システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-097328   出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー

審査官引用 (2件)

• 総合化学処理装置及びその準備のためのプロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-521214   出願人：イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 積層構造体の製造方法および積層構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-012690   出願人：富士ゼロックス株式会社, 三菱重工業株式会社