特許
J-GLOBAL ID：200903011007517669
反応装置及び反応方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小谷 悦司
, 伊藤 孝夫
, 樋口 次郎
, 村松 敏郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-001120
公開番号（公開出願番号）：特開2008-168173
出願日： 2007年01月09日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：
【課題】第1反応剤と第2反応剤の導入路の層厚方向の寸法を縮小することなく、両反応剤の単位体積当たりの接触面積を増大させて反応効率をより向上させる。【解決手段】反応装置では、流路4aは第1反応剤が導入される第1導入路10と、この第1導入路10と離間して配置され、第2反応剤が導入される第2導入路12と、第1導入路10を流れる第1反応剤と第2導入路12を流れる第2反応剤を互いに分離した層流の状態で合流させる合流路14と、この合流路14の下流側に繋がり、第1反応剤の層流と第2反応剤の層流を両反応剤が互いに接触した状態で流通させるとともにそれら両反応剤を互いの接触界面において反応させる反応流路16とを含み、反応流路16の前記接触界面に垂直な層厚方向の寸法d3は、第1導入路10の前記層厚方向の寸法d1と第2導入路12の前記層厚方向の寸法d2との和よりも小さくなるように設定されている。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
第1反応剤と第2反応剤を流通させながらそれらを反応させる反応装置であって、
特定方向に延びるとともにその方向に沿って前記第1反応剤と前記第2反応剤を流通させる流路を内部に持つ流路構造体を備え、
前記流路は、当該流路の入口側に配置されるとともに前記第1反応剤が導入される第1導入路と、前記流路構造体に設けられた仕切壁を挟んで前記第1導入路と離間して配置され、前記第2反応剤が導入される第2導入路と、前記第1導入路と前記第2導入路の下流側に繋がり、前記第1導入路を通じて流れる前記第1反応剤と前記第2導入路を通じて流れる前記第2反応剤を互いに分離した層流の状態で合流させる合流路と、この合流路の下流側に繋がり、前記第1反応剤の層流と前記第2反応剤の層流を両反応剤が互いに接触した状態で流通させるとともにそれら両反応剤を互いの接触界面において反応させる反応流路とを含み、
前記反応流路の前記接触界面に垂直な層厚方向の寸法は、前記第1導入路の前記層厚方向の寸法と前記第2導入路の前記層厚方向の寸法との和よりも小さくなるように設定されている、反応装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
4G075AA02
, 4G075BA10
, 4G075BD05
, 4G075FA01
, 4G075FA12
, 4G075FA20
, 4G075FB02
出願人引用 (1件)
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反応方法および反応装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-068705
出願人：住友化学工業株式会社
審査官引用 (12件)
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