特許
J-GLOBAL ID:200903018235165068
超電導薄膜材料およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (6件):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-140172
公開番号(公開出願番号):特開2007-311234
出願日: 2006年05月19日
公開日(公表日): 2007年11月29日
要約:
【課題】高いJCおよび高いIC等の優れた特性と、低コスト化の実現とを両立することが可能な超電導薄膜材料およびその製造方法を提供する。【解決手段】超電導薄膜材料1は、金属配向基板10と、金属配向基板10上に形成された酸化物超電導膜30とを備え、酸化物超電導膜30は、物理蒸着法により形成された物理蒸着HoBCO層31と、物理蒸着HoBCO層31上に有機金属堆積法により形成された有機金属堆積HoBCO層32とを含んでいる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板と、
前記基板上に形成された超電導膜とを備え、
前記超電導膜は、
物理蒸着法により形成された物理蒸着層と、
前記物理蒸着層上に有機金属堆積法により形成された有機金属堆積層とを含んでいる、超電導薄膜材料。
IPC (6件):
H01B 12/06
, H01B 13/00
, C23C 14/08
, C23C 16/40
, H01L 39/24
, H01L 21/205
FI (6件):
H01B12/06
, H01B13/00 565D
, C23C14/08 L
, C23C16/40
, H01L39/24 B
, H01L21/205
Fターム (40件):
4K029AA02
, 4K029AA25
, 4K029BA43
, 4K029BA53
, 4K029BA55
, 4K029BB02
, 4K029BC04
, 4K029CA01
, 4K029DB20
, 4K029EA01
, 4K030AA11
, 4K030BB13
, 4K030CA02
, 4K030CA12
, 4K030FA10
, 4K030JA01
, 4K030LA03
, 4M113AD35
, 4M113AD36
, 4M113AD47
, 4M113BA03
, 4M113BA04
, 4M113BA29
, 4M113CA31
, 4M113CA44
, 5F045AA04
, 5F045AA18
, 5F045AB31
, 5G321AA02
, 5G321BA01
, 5G321CA04
, 5G321CA05
, 5G321CA21
, 5G321CA24
, 5G321CA27
, 5G321CA41
, 5G321DB36
, 5G321DB37
, 5G321DB39
, 5G321DB41
引用特許:
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