薄層部品を製造するための偏光解析法と制御装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武田正彦 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-555062
公開番号（公開出願番号）：特表2002-518665
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2002年06月25日
要約：

【要約】 (修正有)本発明は、ガスパネルにより制御される物体製造を制御する方法に関する。この方法は、ミュラー行列で表示される物体に関して偏光解析測定を行い、ガスパネルを用いて偏光解析測定に基づく製造を制御することから成る。本発明の特徴は、製造の特性把握用に、ミュラー行列の確定パラメータの事前の決定から成り、前記パラメータのみを製造中に偏光解析測定から抽出するもので、前記パラメータは偏光解析角度Ψ、Δと、その三角関数の二つの異なるパラメータである。さらに、本発明は、ミュラー行列で表示される物体に関する測定を行うための偏光解析器を備えたガスパネルによって制御された物体製造用設備に関する。

請求項（抜粋）：

ミュラー行列で表示される物体を偏光解析法で測定し、偏光解析測定に関係してリアルタイムで製造を制御する物体の製造を制御する方法において、製造の特性把握に適したパラメータでミュラー行列の確定パラメータを事前に決め、これらのパラメータのみを製造中に偏光解析測定から抽出するもので、前記パラメータが偏光解析角度Ψ、Δと前記角度の三角関数の少なくとも二つの異なるパラメータであることを特徴とする物体の製造を制御する方法。

IPC (4件)：

G01N 21/21 , C23C 14/54 , C23C 16/52 , H01L 21/205

FI (4件)：

G01N 21/21 Z , C23C 14/54 E , C23C 16/52 , H01L 21/205

Fターム (36件)：

2G059AA02 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059GG06 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ17 , 2G059JJ18 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK01 , 2G059KK03 , 2G059MM01 , 2G059MM03 , 2G059PP04 , 4K029EA00 , 4K029EA01 , 4K030JA01 , 4K030JA06 , 4K030KA39 , 5F045AA04 , 5F045AA08 , 5F045AC01 , 5F045AC11 , 5F045AC12 , 5F045AC15 , 5F045AC17 , 5F045EE04 , 5F045EH19 , 5F045GB04 , 5F045GB17

引用特許：

審査官引用 (4件)

楕円偏光測定方法、楕円偏光計及びそのような方法及び装置を使用して層の生成を制御する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-080417 出願人：アンストルマンソシエテアノニム
異方性薄膜検査法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-049320 出願人：日本電気株式会社
表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-228363 出願人：川崎製鉄株式会社

全件表示

前のページに戻る