特許
J-GLOBAL ID：200903018386723658
光源自動化システム
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-282155
公開番号（公開出願番号）：特開平8-106549
出願日： 1993年10月18日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【目的】3次元コンピューター・グラフィックスにおける光源の光源位置、照射位置、光源ベクトル、照射範囲、光源強度、減衰係数の自動化。【構成】光源位置は視点自動追随、照射位置は注視点自動追随、光源ベクトルは光軸ベクトル自動追随、照射範囲は被写体範囲自動追随させる手段により、自動化を達成する。光源強度と減衰係数は指定した2つの物体を基準に自動決定させる。視点自動化システムと注視点自動化システムと組み合わせることにより、視点、注視点、光源のすべてを自動化して画像生成でき、アーティストやデザイナはこれら相互の複雑な調整に捕らわれることなく、ひたすら造形的手腕を発揮できる。
請求項（抜粋）：
3次元CGにおける光源位置の自動化にあたり、次の(1a)の手段からなることを特徴とする光源自動化システム。(1a)画像生成開始直前の視点の座標を、光源位置とする手段。
引用特許：
前のページに戻る
