特許
J-GLOBAL ID：200903018390326205

電解銅箔の製造方法とそれに用いる装置

発明者：
本橋 成公

本橋 成公 について

, 
天方 正志

天方 正志 について


出願人/特許権者：
日本電解株式会社

日本電解株式会社 について


代理人 (1件)： 穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-162427
公開番号（公開出願番号）：特開2001-342590
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：
【要約】【課題】 電着開始時に補助陽極を用いて高電流密度の電流を通電して電解銅箔を製造する際、通常の電着部の電解に発生するガスの影響をなくして、カールとピンホールを十分に除去することができる電解銅箔の製造方法とそれに用いる装置を提供する。【解決手段】 回転する陰極ドラムと、これに対向する断面円弧状の陽極に囲まれた間隙に電解液を供給して直流電流を通電し、陰極ドラム面に電解銅箔を析出させる電解銅箔の製造方法において、断面円弧状の陽極の上部に補助陽極と電解液受け及びせき板とを設け、補助陽極の近傍に設置された電解液供給部から電解液を陰極ドラム表面に供給し、陰極ドラム面と補助陽極との間に電解液受け及びせき板により電解液溜りを保持して、陰極ドラム面と電解液受け端部との間隙から電解液を排出しながら陰極ドラムと補助陽極との間に通電する。
請求項（抜粋）：
回転する陰極ドラムと、これに対向する断面円弧状の陽極に囲まれた間隙に電解液を供給して直流電流を通電し、陰極ドラム面に電解銅箔を析出させる電解銅箔の製造方法において、断面円弧状の陽極の上部に補助陽極と電解液受け及びせき板とを設け、補助陽極の近傍に設置された電解液供給部から電解液を陰極ドラム面に供給し、陰極ドラム面と補助陽極との間に電解液受け及びせき板により電解液溜りを保持して、陰極ドラム面と電解液受け端部との間隙から電解液を排出しながら陰極ドラムと補助陽極との間に通電することを特徴とする電解銅箔の製造方法。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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