特許
J-GLOBAL ID：200903018407643951
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-148547
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340641
出願日： 1999年05月27日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】基板処理装置で密閉式カセット内のウェーハ又は処理済ウェーハの自然酸化、或はパーティクル汚染を防止する。【解決手段】ウェーハが装填される密閉式カセット12を受載するカセット棚を具備する基板処理装置に於いて、前記カセットがカセット棚23に受載された状態で、前記カセット内に不活性ガスを給排する不活性ガス供給手段32を設け、密閉式のウェーハカセットに清浄な不活性ガスを供給し、該ウェーハカセット内を不活性ガス雰囲気に常に保つことにより、未処理ウェーハ又は処理済ウェーハの自然酸化或はパーティクル汚染を防止する。
請求項（抜粋）：
ウェーハが装填される密閉式カセットを受載するカセット棚を具備する基板処理装置に於いて、前記カセットがカセット棚に受載された状態で、前記カセット内に不活性ガスを給排する不活性ガス供給手段を設けたことを特徴とする基板処理装置。
Fターム (7件)：
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA12
, 5F031EA14
, 5F031FA01
, 5F031FA09
, 5F031NA04
