特許

J-GLOBAL ID：200903018426805920

欠陥検査装置

発明者： 宮崎 陽子 ,  池野 昌彦
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174951
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004347
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 検査対象に生じている欠陥を高精度に検出し得る欠陥検査装置を得る。【解決手段】 第1主制御部12は、反射率のウェハ面内における分布を作成し、これに基づいて照射光制御データD6を生成する。この照射光制御データD6は、ウェハ面内の全ての箇所で反射光L3の強度が平均値K2になるように照射光L2の強度を調整するための制御データである。フィルタ制御部14は、照射光制御データD6に基づいてフィルタ制御信号S2をフィルタ5に入力する。フィルタ5における照射光L1の透過率あるいは反射率は、フィルタ制御信号S2によって制御される。その結果、被検査ウェハ1からの反射光L4の強度は、ウェハ面内において均一に制御される。

請求項（抜粋）：

検査対象の検査面に光を照射する光照射部と、前記検査面内における前記光の反射率の分布に基づいて、前記検査面で反射される反射光の強度を前記検査面に関して均一にするための照射光制御データを生成するデータ生成部と、前記光照射部から前記検査面に照射される前記光の強度を前記照射光制御データに基づいて制御する光強度制御部と、前記検査面で反射された前記反射光、若しくは前記光による前記検査面からの散乱光を受光することにより、前記検査面における欠陥の有無を検査する検査部とを備える欠陥検査装置。

IPC (2件)：

G01B 11/30 ,  G01N 21/88

FI (2件)：

G01B 11/30 A ,  G01N 21/88 645 A

Fターム (34件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065FF44 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ17 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL24 ,  2F065LL31 ,  2F065LL53 ,  2F065NN03 ,  2F065NN16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR09 ,  2G051AA51 ,  2G051AA61 ,  2G051AB02 ,  2G051BA20 ,  2G051BB07 ,  2G051CA02 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 半導体チップの外観検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-333166   出願人：シャープ株式会社
• 異物欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-184776   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭63-208746
  
• 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-211981   出願人：株式会社ニコン