特許

J-GLOBAL ID：200903018479535037

光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット

発明者： 姜 仁鎬 ,  小田 淳一
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-360706
公開番号（公開出願番号）：特開2000-178726
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】 レーザーを用いて情報の記録および消去を行う光ディスクなどの光メディアに用いられる保護膜を形成するための、カルコゲン化亜鉛-二酸化ケイ素焼結体からなる高出力スパッタリングを行っても割れが発生しない機械的強度の優れた光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 カルコゲン化亜鉛素地中に平均粒径が0.0005〜0.1μmの範囲内にありかつ比表面積値が50〜150m2 /gの範囲内にある無定型二酸化ケイ素粉末が分散している光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

カルコゲン化亜鉛素地中に無定型二酸化ケイ素粉末が分散している組織を有することを特徴とする光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/00 ,  G11B 7/26

FI (3件)：

C23C 14/34 A ,  G11B 7/26 ,  C04B 35/00 H

Fターム (14件)：

4G030AA37 ,  4G030AA55 ,  4G030AA56 ,  4G030BA14 ,  4G030CA04 ,  4G030GA29 ,  4K029BA41 ,  4K029BD00 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE10 ,  5D121EE14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• スパッタターゲットおよびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-100966   出願人：ライボルトマテリアルスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 特開平4-074785
  
• 光記録媒体の干渉膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-252058   出願人：ティーディーケイ株式会社