研磨布及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：竹内澄夫 , 堀明▲ひこ▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-270047
公開番号（公開出願番号）：特開2004-136432
出願日： 2003年07月01日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：

【課題】表面平坦性が良くかつ研磨液を充分に保持することができ、被研磨面に微小うねりを生じさせない研磨布を与える。【解決手段】ベース基材と、該ベース基材上に積層した表面層とから成る研磨布であって、表面層は気泡セルを含む発泡層及び非発泡層から成り、非発泡層の表面に条痕が設けられ、条痕の先端が気泡セルに達しており、気泡セルは条痕を通じて外部と通気することを特徴とする研磨布。条痕の大きさは、10μm以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ベース基材と、該ベース基材上に積層した表面層とから成る研磨布であって、前記表面層は気泡セルを含む発泡層及び非発泡層から成り、前記非発泡層の表面に条痕が設けられ、前記条痕の先端が前記気泡セルに達しており、前記気泡セルは前記条痕を通じて外部と通気することを特徴とする研磨布。

IPC (2件)：

B24B37/00 , B32B5/18

FI (2件)：

B24B37/00 C , B32B5/18

Fターム (23件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CB01 , 3C058DA17 , 4F100AB01A , 4F100AJ05A , 4F100AK15A , 4F100AK42A , 4F100AK51 , 4F100AN00A , 4F100AR00B , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100CA01 , 4F100DG10A , 4F100DG12A , 4F100DG15A , 4F100DJ01A , 4F100DJ01B , 4F100EH46 , 4F100EJ39B , 4F100GB90 , 4F100YY00B

引用特許：

出願人引用 (2件)

特許第3187769号公報
研磨布および平面研磨加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-243620 出願人：富士電機株式会社

審査官引用 (2件)

研磨パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-071074 出願人：東レコーテックス株式会社, 日本電気硝子株式会社
研磨布および平面研磨加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-243620 出願人：富士電機株式会社

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