特許
J-GLOBAL ID：200903018544922027

エッジ検出方法及びその装置

発明者：
増田 剛

増田 剛 について


出願人/特許権者：
松下電工株式会社

松下電工株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-260100
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102442
出願日： 1997年09月25日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：
【要約】【課題】 画像の濃淡から検査対象のエッジ位置を検出するエッジ検出方法及びその装置において、エッジ近傍の明暗差が小さいために微分絶対値が小さくても、容易に高精度なエッジ位置の検出ができるエッジ検出方法及びその装置を提供すること。【解決手段】 検査対象1を撮像して濃淡画像3を得、得られた濃淡画像3内のエッジ方向を特定し、エッジ2にまたがる領域に複数の画素4よりなるマスク5を設定し、同マスク5の各画素4ごとの輝度情報に基づく空間微分演算を行い、微分方向コード値が特定されたエッジ方向と一致する画素4aを、エッジ方向と直交する画素列ごとに累積演算した累積値分布を求め、得られた累積値分布の最大値を有する画素列を求め、この画素列位置をエッジ位置とするエッジ位置特定過程とを経てエッジ位置を検出する。
請求項（抜粋）：
画像の濃淡から検査対象のエッジ位置を検出するエッジ検出方法において、以下の(A)〜(E)の過程を経てエッジ位置を特定し、エッジ位置を求めることを特徴とするエッジ検出方法。(A)エッジを含む検査対象を撮像して濃淡画像を得る画像入力過程。(B)得られた濃淡画像内のエッジ近傍の淡側から濃側へ向かう方向をエッジ方向として、このエッジ方向を特定するエッジ方向特定過程。(C)エッジにまたがる領域に複数の画素よりなるマスクを設定し、同マスクの各画素ごとの輝度情報に基づく空間微分演算を行う空間微分演算過程。(D)微分方向コード値が特定されたエッジ方向と一致する画素を、エッジ方向と直交する画素列ごとに累積演算した累積値分布を求めるエッジ方向累積演算過程。(E)エッジ方向累積演算過程で得られた累積値分布の最大値を有する画素列を求め、この画素列位置をエッジ位置とするエッジ位置特定過程。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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