特許
J-GLOBAL ID：200903018562199502
光照射装置およびこれを用いた転写加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276231
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100146
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 ホログラムでビームを分割し、被照射部、またはパターンマスク上で重畳して光強度を均一化する際に、0次光成分が強く発生し不均一な光強度分布となることを防止し、高品質、高精度な加工を達成する。【解決手段】 ホログラム2と集光レンズ3、または集光レンズ3と被照射部4を、集光レンズ3の焦点距離fと異なる距離L2を隔てて配置し、被照射部4における分割ビーム7の径を大きくすることにより、0次光成分のピークを抑えた。
請求項（抜粋）：
光源と、前記光源から出射される光に複数の角度をもたせて広げ分割するホログラムと、前記ホログラムで分割された光を集光するレンズと、前記レンズを透過した光が照射される被照射部とが順次配置され、前記レンズが、前記被照射部と、前記レンズの焦点距離fと異なる距離L2を隔てて配置されていることを特徴とする光照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
2H049CA01
, 2H049CA05
, 2H049CA09
, 2H049CA11
, 2H049CA18
