特許
J-GLOBAL ID：200903018658296118

表面平滑加工用適応GCIB

発明者：
フェナー,デイビッド,ビー.

フェナー,デイビッド,ビー. について


出願人/特許権者：
エピオン コーポレイション

エピオン コーポレイション について


代理人 (1件)： 廣江 武典
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-511710
公開番号（公開出願番号）：特表2003-505867
出願日： 2000年07月14日
公開日（公表日）： 2003年02月12日
要約：
【要約】表面粗度の低下性能を改善させるために固体対象物体の表面の処理時にイオンビームの物性を適応させるGCIBを利用した方法と装置とが開示されている。本願発明は所定の深度にまでエッチングして表面汚染物を除去するエッチングと組み合わせた表面平滑性能を提供する。本願発明の利点は、処理時間が短いことと、仕上がり表面の残留粗度が小さいことと、望む表面平滑性を得るために除去する表面材料の量を減少させることである。
請求項（抜粋）：
対象物体表面の処理中にガスクラスタイオンビームを活用する方法であって、 該イオンビームに関連するパラメータと特徴とをセットするステップと、 前記対象物体表面を該イオンビームに対して露出するステップと、 前記対象表面の処理中に操作条件に対応して前記パラメータと特徴とを適応させるステップと、を含んでいることを特徴とする方法。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305
FI (4件)：
C23F 4/00 A ,  G21K 5/04 A ,  H01J 37/305 A ,  H01L 21/302 L
Fターム (28件)：
4K057DA01 ,  4K057DA04 ,  4K057DD04 ,  4K057DE01 ,  4K057DE06 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DG13 ,  4K057DG14 ,  4K057DG15 ,  4K057DG17 ,  4K057DG20 ,  4K057DN01 ,  4K057WB01 ,  4K057WB06 ,  5C034BB09 ,  5F004AA11 ,  5F004AA14 ,  5F004BA11 ,  5F004BA17 ,  5F004CA01 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CB09 ,  5F004DA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DA30
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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