特許
J-GLOBAL ID：200903018781584403

投影露光装置

発明者：
村山 正幸

村山 正幸 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059660
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260688
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 露光光路中に配設された光学素子の汚染状態を容易に検出することができる投影露光装置の提供。【解決手段】 露光用光源1からのArFエキシマレーザ光を複数の光学素子(ビーム整形レンズ2,ミラー3,ビームエキスパンダーレンズ4,ミラー5,フライアイレンズ6,第1リレーレンズ7,レチクルブラインド8,第2リレーレンズ9,ミラー10,コンデンサレンズ11)で構成される照明光学系によりレチクル12に照射し、投影光学系13によりレチクル12のパターンの像をウェハ14上に結像する投影露光装置において、複数の光学素子2〜5,7,9〜11に、光学素子2〜5,7,9〜11の汚染状態を光学特性変化を検出する光音響センサ17a〜17hを設けた。
請求項（抜粋）：
露光用光源からの露光光で照明されたパターンの像を感光性基板上に結像する光学系を備える投影露光装置において、前記光学系を構成する複数の光学素子の少なくとも一つに設けられ、前記光学素子の光学特性変化を検知するセンサと、前記センサの検知結果に基づいて前記光学素子の汚染状態を検出する検出手段とを設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01N 21/88 ,  G03F 7/20 502
FI (4件)：
H01L 21/30 515 D ,  G01N 21/88 E ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 516 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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