特許

J-GLOBAL ID：200903018830770765

シリカゲル

発明者： 勝呂 芳雄 ,  加藤 波奈子 ,  山口 隆 ,  吉森 孝幸
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-297457
公開番号（公開出願番号）：特開2003-165717
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】 耐熱性、耐水性などに優れた新規なシリカゲルの製造方法を提供する。【解決手段】 シリコンアルコキシドを加水分解し、得られたヒドロゲルを実質的に熟成することなく水熱処理することを特徴とするシリカゲルの製造方法。

請求項（抜粋）：

以下の特徴を有するシリカゲル。(a)細孔容積が0.6〜1.6ml/g、(b)比表面積が300〜1000m2/g、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満、(d)Dmaxの±20%の範囲にある細孔の容積が全細孔容積の50%以上、(e)非結晶質であること、(f)金属不純物の含有量が500ppm以下。

Fターム (11件)：

4G072AA28 ,  4G072BB13 ,  4G072CC10 ,  4G072HH30 ,  4G072MM01 ,  4G072RR05 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284958   出願人：日本シリカ工業株式会社
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185171   出願人：日本シリカ工業株式会社
• 特開平4-193708
  

審査官引用 (3件)

• 高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284958   出願人：日本シリカ工業株式会社
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-185171   出願人：日本シリカ工業株式会社
• 特開平4-193708