特許
J-GLOBAL ID：200903018856982426

電子線、EUV光又はX線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-092091
公開番号（公開出願番号）：特開2005-275283
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】電子線、X線、あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像力で、良好なパターン形状、ラインエッジラフネス、溶解コントラスト、ネガ化抑制、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、(B)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂が、繰り返し単位の少なくとも1種類としてフッ素置換アルコール残基が連結した脂環基を有する繰り返し単位を有することを特徴とする電子線、EUV光又はX線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (B)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂 を含有するポジ型レジスト組成物に於いて、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂が、繰り返し単位の少なくとも1種類としてフッ素置換アルコール残基が連結した脂環基を有する繰り返し単位を有することを特徴とする電子線、EUV光又はX線用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (18件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
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