フォトレジスト用高分子化合物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：後藤幸久 , 壬生優子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-289975
公開番号（公開出願番号）：特開2006-037117
出願日： 2005年10月03日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】金属成分等の不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。【解決手段】本発明のフォトレジスト用高分子化合物は、ラクトン骨格を含む単量体(a)、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を滴下重合に付して得られるフォトレジスト用高分子化合物であって、(i)前記滴下重合により得られたポリマーを、有機溶媒と水とを用いた抽出操作に付す抽出工程(B)、又は(ii)前記滴下重合により得られたポリマーを含有する特定のポリマー溶液を特定のフィルターに通液させる工程(I)を経ることにより、ナトリウム含有量(ポリマー重量基準)が95重量ppb以下に低減されている。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ラクトン骨格を含む単量体(a)、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を滴下重合に付して得られるフォトレジスト用高分子化合物であって、(i)前記滴下重合により生成したポリマーを、有機溶媒と水とを用いた抽出操作に付し、生成したポリマーを有機溶媒層に、不純物としての金属成分を水層に分配する抽出工程(B)、又は(ii)前記滴下重合により生成したポリマーを含有し、且つ金属含有量が前記ポリマーに対して1000重量ppb以下であるポリマー溶液を、カチオン交換基を有する多孔質ポリオレフィン膜で構成されたフィルターに通液させる工程(I)を経ることにより、ナトリウム含有量(ポリマー重量基準)が95重量ppb以下に低減されたフォトレジスト用高分子化合物。

IPC (2件)：

C08F 20/26 , G03F 7/039

FI (2件)：

C08F20/26 , G03F7/039 601

Fターム (22件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC53R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-204223 出願人：ジェイエスアール株式会社
多孔質イオン交換体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-237544 出願人：旭硝子株式会社
モノマーの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-060308 出願人：三菱レイヨン株式会社

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