特許
J-GLOBAL ID:200903019006067466

形状測定装置及びその校正方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-408456
公開番号(公開出願番号):特開2005-024534
出願日: 2003年12月08日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
【課題】 より低コストにかつ精確に校正処理を実行することができる形状測定装置及びその校正方法を提供する。 【解決手段】 例えば干渉計1,2から構成される形状測定手段を用いて試料Wの形状を測定する形状測定装置Aにおいて,試料Wと形状測定手段との角度位置関係を変えて試料Wの両面の傾きを2度測定し,その測定結果を用いて形状測定装置Aの校正用データを算出する。これにより測定ゲインを精確に調整することができるので,形状測定手段としての干渉計の参照面と被測定面とを平行にするのに必要とされる機構を省略することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
板状試料の両面側に対向配置される各形状測定手段を用いて前記板状試料の形状を測定する形状測定装置において, 前記板状試料又は他の板状の試料のいずれかである調整用試料と前記各形状測定手段とが第1の角度位置関係にあるときに前記各形状測定手段を用いて前記板状試料両面それぞれの傾きを測定する第1傾き測定手段と, 前記調整用試料と前記各形状測定手段とが他の第2の角度位置関係にあるときに前記各形状測定手段を用いて前記調整用試料両面それぞれの傾きを測定する第2傾き測定手段と, 前記第1傾き測定手段による測定結果と前記第2傾き測定手段による測定結果とに基づいて前記各形状測定手段の測定ゲインを調整する測定ゲイン調整手段と, を備えてなる形状測定装置。
IPC (3件):
G01B21/20 ,  G01B9/02 ,  G01B11/24
FI (3件):
G01B21/20 F ,  G01B9/02 ,  G01B11/24 D
Fターム (58件):
2F064AA09 ,  2F064CC10 ,  2F064DD08 ,  2F064DD09 ,  2F064EE01 ,  2F064EE05 ,  2F064EE10 ,  2F064FF02 ,  2F064GG13 ,  2F064GG52 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064KK04 ,  2F065AA35 ,  2F065AA53 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF52 ,  2F065FF53 ,  2F065FF61 ,  2F065GG05 ,  2F065HH03 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL46 ,  2F065LL65 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065MM28 ,  2F065NN05 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065RR06 ,  2F065RR09 ,  2F065UU05 ,  2F069AA60 ,  2F069AA64 ,  2F069AA77 ,  2F069BB15 ,  2F069CC06 ,  2F069DD02 ,  2F069DD30 ,  2F069FF03 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG35 ,  2F069GG52 ,  2F069HH30 ,  2F069JJ06 ,  2F069JJ23 ,  2F069MM32 ,  2F069NN08
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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