特許
J-GLOBAL ID：200903019009194051
レーザ熱転写材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-217948
公開番号（公開出願番号）：特開2001-039040
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【課題】 レーザ熱転写記録時の有害性物質の発生のない、又は着色剤の熱分解を抑制して画像濃度の高い、高画質な画像を安定に形成でき、かつ有害性物質の発生をも防止しうるレーザ熱転写材料を提供する。【解決手段】 支持体上に光熱変換層と画像形成層とを有するレーザ熱転写材料において、前記画像形成層が下記一般式(1)で表される化合物〔R1、R2:炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基。R3、R4:芳香族基、芳香族環にヘテロ環が縮合した縮合複素環基。X:2価の連結基。Ri、Rj:水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基、ハロゲン原子。p、q:1〜4の整数。p、qが2以上の場合、Ri、Rjはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。〕を含有するレーザ熱転写材料。前記R3、R4が、下記構造式で表されるベンズイミダゾロン環基である態様が好ましい。【化1】
請求項（抜粋）：
支持体上に、少なくとも光熱変換層と画像形成層とを有するレーザ熱転写材料において、前記画像形成層が、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とするレーザ熱転写材料。【化1】〔式中、R1、R2は、それぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表し、R3、R4は、それぞれ独立に芳香族基又は芳香族環にヘテロ環が縮合した縮合複素環基を表す。Ri又はRjを含む芳香族基は、互いに2価の連結基Xで結合され、Ri、Rjは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。p、qは、それぞれ独立に1〜4の整数を表す。p、qが2以上の場合、Ri、Rjは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。〕
IPC (3件)：
B41M 5/30
, B41M 5/26
, B41M 5/40
B41M 5/26 K
, B41M 5/26 Q
, B41M 5/26 F
2H111AA04
, 2H111AA26
, 2H111AA35
, 2H111BA03
, 2H111BA04
, 2H111BA07
, 2H111BA09
, 2H111BA38
, 2H111BA49
, 2H111CA03
, 2H111CA04
