X線発生装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-165020
公開番号（公開出願番号）：特開2002-358919
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】高解像度の透過型X線管を提供すること。【解決手段】電子レンズ形成部100Aは、ヨーク130の内部に形成された中心軸部131と、ヨーク130の外周を規定する外周部133を含む。中心軸部131の先端部135の一部は、電子銃側に位置する磁極110となる。磁極110により第1開口部111が規定されている。外周部133の先端部137の一部は、ターゲット300側に位置する磁極120となる。磁極120により第2開口部121が規定されている。第2開口部121の径d2の値は、第1開口部111の径d1の値より大きい。

請求項（抜粋）：

電子ビームをターゲットの一方の面に当てることにより、前記ターゲットの他方の面からX線が放射されるX線発生装置であって、電子ビームを発生する手段と、前記電子ビーム発生手段側に位置する一方磁極と前記ターゲット側に位置する他方磁極を含み、これらの磁極により発生する磁場を用いて電子ビームを収束させる電子レンズを形成する手段と、を備え、前記一方磁極は、前記電子ビーム発生手段で発生した電子ビームが出射される第1開口部を有し、前記他方磁極は、前記第1開口部から出射された電子ビームが入射する第2開口部を有し、前記第2開口部の径の値は、前記第1開口部の径の値以上である、X線発生装置。

IPC (2件)：

H01J 35/14 , G21K 5/02

FI (2件)：

H01J 35/14 , G21K 5/02 X

引用特許：

出願人引用 (5件)

X線管
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-085899 出願人：株式会社島津製作所
荷電粒子ビ-ムフォ-カシング用磁気レンズ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-319019 出願人：シュルンベルジェテクノロジーズ,インコーポレイテッド
特開昭58-198837

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審査官引用 (5件)

X線管
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-085899 出願人：株式会社島津製作所
荷電粒子ビ-ムフォ-カシング用磁気レンズ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-319019 出願人：シュルンベルジェテクノロジーズ,インコーポレイテッド
特開昭58-198837

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