特許
J-GLOBAL ID：200903019047609990
フォトマスクの遮光帯作成方法及び遮光帯データ作成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-140776
公開番号（公開出願番号）：特開2008-292944
出願日： 2007年05月28日
公開日（公表日）： 2008年12月04日
要約：
【課題】フレアによるショット領域の露光を抑制し、メンテナンスコストを低減し得るフォトマスクの遮光帯作成方法及び遮光帯データ作成装置を提供する。【解決手段】露光装置でのフレアの発生量と露光装置のメンテナンス周期とに応じて必要となるフォトマスクの遮光帯の幅をあらかじめフレア管理テーブルA〜Cとして備え、フレア量の許容上限を示す管理値に基づいてフレア管理テーブルA〜Cから必要とする遮光帯の幅を求める。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置でのフレアの発生量と露光装置のメンテナンス周期とに応じて必要となるフォトマスクの遮光帯の幅をあらかじめフレア管理テーブルとして備え、フレア量の許容上限を示す管理値に基づいて前記フレア管理テーブルから必要とする遮光帯の幅を求めることを特徴とするフォトマスクの遮光帯作成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
