ガスの供給方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-518068
公開番号（公開出願番号）：特表2008-546982
出願日： 2006年06月02日
公開日（公表日）： 2008年12月25日
要約：

本発明は大気圧より高く加圧されたガスまたは混合ガスが電気加熱ユニット(2,3;6,7)を通過されるような、充填機械の処理ステーションへ所定の温度のガスまたは混合ガスを供給する方法および装置に関する。これは、ガス温度を検出するセンサーを含み、その出力信号はガス温度調整ユニット(図示せず)へフィードバックされ、また加熱ユニット(2,3;6,7)から放出されるガスの温度を調整するために加熱ユニットに連結される。加熱ユニット(7)はガスまたは混合ガスが積極的に流されて調整される導電性シェルまたはキャビティ(6)として形成される。シェル(7)は電流回路の調整ユニットで調整される電圧を印加され、回路に流れる電流、したがってシェル材料の抵抗によってシェルが、またガスおよび混合ガスが加熱され、その後シェルの温度が記録されて調整器へフィードバックされ、シェルまたはキャビティ(6)からの流出に望まれるガス温度に等しいガス温度になるように電圧を調整する。

請求項（抜粋）：

大気圧より高く加圧されたガスまたは混合ガスが電気的に加熱される加熱ユニット(2,3;6,7)を通過され、加熱ユニットはガス温度を測定するセンサーを含み、センサーの出力信号がガス温度調整ユニットへフィードバックされ、加熱ユニット(2,3;6,7)から放出されるガスの温度を調整するためにガス温度調整ユニットが加熱ユニットに連結されている、充填機械の処理ステーションに対して所定温度のガスまたは混合ガスを供給することに関係した方法であって、加熱ユニット(7)はガスまたは混合ガスが流れる導電性のシェルまたはキャビティ(6)として形成され、このシェルは電流回路の調整ユニットによって調整される電圧を印加され、その電流回路に流れる電流および材料の抵抗によってシェル並びにそれによりガスおよび混合ガスが加熱され、その後シェルの温度が記録されて調整ユニットへフィードバックされ、調整ユニットが、シェルまたはキャビティ(6)から流出することが望まれるガス温度に相当するガス温度に対応するように電圧を調整することを特徴とする方法。

IPC (1件)：

F24H 3/04

FI (1件)：

F24H3/04 302

Fターム (6件)：

3L028BA03 , 3L028BB05 , 3L028BD03 , 3L034BA14 , 3L034BB02 , 3L034BB03

引用特許：

出願人引用 (4件)

流体加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-130908 出願人：株式会社ミヤデン
特公昭61-043823
流体加熱方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-021175 出願人：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー

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審査官引用 (4件)

流体加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-130908 出願人：株式会社ミヤデン
特公昭61-043823
流体加熱方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-021175 出願人：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー

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