特許
J-GLOBAL ID：200903019251237393
プロセスの予測方法及び処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-193624
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039805
出願日： 2002年07月02日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】洗浄後のプラズマ処理装置1の場合には洗浄前に作成されたモデル式による予測値が設定値から大きく外れているため、洗浄前に作成したモデル式をそのまま用いて洗浄後のプラズマ処理装置1のプロセスパラメータを予測することができない。【解決手段】本発明のプロセスの予測方法は、洗浄前のプラズマ処理装置1を用いて複数のウエハに対して行なった標準処理により得られる複数の検出データを主成分分析して主成分分析モデルを作成すると共にその残差を第1の残差として求める工程と、洗浄後のプラズマ処理装置1を用いてウエハに対して上記標準処理により得られる複数の検出データを用いて上記主成分分析モデルにより第2の残差を求める工程と、第1の残差のバラツキの最大値及び最小値を基準にして第2の残差のバラツキの小さい検出データを選択する工程と、選択された複数の検出データの残差を用いて重回帰モデルを作成する工程とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理体を処理する際に、複数の検出器からの複数の検出データを多変量解析して処理装置の装置状態を評価し、または処理結果を予測するプロセスの予測方法において、一つの処理装置を用いて複数の被処理体に対して所定条件の標準処理を行う工程と、この標準処理により得られる複数の検出データを主成分分析して主成分分析モデルを作成すると共にこの主成分分析モデルの残差を第1の残差として求める工程と、上記処理装置と同種の他の処理装置を用いて上記被処理体と同種の複数の被処理体に対して上記標準処理を行う工程と、この標準処理により得られる複数の検出データを用いて上記主成分分析モデルにより第2の残差を求める工程と、上記第1の残差のバラツキを基準にして上記第2の残差のバラツキの小さい検出データを選択する工程と、選択された複数の検出データの残差を用いて多変量解析モデルを作成する工程とを備えたことを特徴とするプロセスの予測方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 103
, G05B23/02 P
5F004AA15
, 5F004BD04
, 5F004CA02
, 5F004CA03
, 5F004CA08
, 5F004CB02
, 5F004CB15
, 5H223AA05
, 5H223DD09
, 5H223EE06
, 5H223FF05
