特許
J-GLOBAL ID:200903019378996641

真空冷却方法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-225552
公開番号(公開出願番号):特開2006-046719
出願日: 2004年08月02日
公開日(公表日): 2006年02月16日
要約:
【課題】 真空吸引手段の能力を強化することなく、短時間で真空冷却を可能とすること。【解決手段】 冷却室2を真空吸引手段4により真空吸引して冷却室2内の被冷却物を真空冷却する真空冷却方法において、前記蓄負圧室5を低圧とする予備工程と、この予備工程後に前記真空吸引手段4および前記蓄負圧室5により前記冷却室2を真空吸引する冷却工程とを行うことを特徴とする。また、冷却工程が、前記冷却室2を前記真空吸引手段4および前記蓄負圧室5と連通する第一冷却工程と、この第一冷却工程後に前記蓄負圧室5を前記冷却室2および前記真空吸引手段4に対して遮断する第二冷却工程とを含むことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
冷却室2を真空吸引手段4により真空吸引して冷却室2内の被冷却物を真空冷却する真空冷却方法において、前記蓄負圧室5を低圧とする予備工程と、この予備工程後に前記真空吸引手段4および前記蓄負圧室5により前記冷却室2を真空吸引する冷却工程とを行うことを特徴とする真空冷却方法。
IPC (2件):
F25D 7/00 ,  F25B 19/00
FI (2件):
F25D7/00 A ,  F25B19/00 A
Fターム (7件):
3L044AA03 ,  3L044BA05 ,  3L044CA11 ,  3L044DD04 ,  3L044FA08 ,  3L044KA01 ,  3L044KA05
引用特許:
出願人引用 (5件)
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