特許
J-GLOBAL ID：200903019461196193

揮発性炭化水素を含む排ガスの処理方法

発明者：
田原 弘

田原 弘 について

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能智 博史

能智 博史 について


出願人/特許権者：
システム エンジ サービス株式会社

システム エンジ サービス株式会社 について

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津留 祥子

津留 祥子 について


代理人 (1件)： 宮越 典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-121740
公開番号（公開出願番号）：特開2005-205392
出願日： 2004年04月16日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】 従来の膜法,吸着法,燃焼法等の欠点を解消し、「ゼロエミツション」を達成するための浄化方法、及び、吸着法に更なる改良を加え、発生源から間欠的に発生する揮発性炭化水素を含む排ガスから揮発性炭化水素を分離・回収し、“高純度の液体炭化水素”として再利用を図る浄化方法を提供する。【解決手段】 吸着孔径が10〜100Åの活性炭を充填した吸着塔1に、比較的小量でかつ間欠的に発生する排ガスを、該排ガス発生期間中は継続して吸着塔1を通過せしめて該吸着塔1内に揮発性炭化水素を溜め込み、その間、実質的に揮発性炭化水素を含まない排ガスを吸着塔1の出口から放出し、一方、前記排ガスの発生が停止した期間中に、先に揮発性炭化水素を大量に溜め込んだ吸着塔1をそのまま脱着操作に切り替えて、吸着された揮発性炭化水素を濃厚な揮発性炭化水素として系外に取り出す、揮発性炭化水素を含む排ガスの浄化方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
吸着と脱着を交互に切り替えて運転することから成る吸着装置において、吸着孔径が10乃至100オングストロームの範囲にある、活性炭及び/又は疎水性シリカゲルから成る吸着剤層であって、該吸着剤層中を、比較的小量で、かつ、間欠的に発生する排ガスを、該ガス発生期間中は継続して通過せしめ、該排ガス中の揮発性炭化水素を前記吸着装置内の吸着剤層に溜め込み、その間、実質的に揮発性炭化水素を含まない排ガスを吸着装置の出口から放出させ、排ガスの発生が停止した期間中に、先に揮発性炭化水素を大量に溜め込んだ吸着装置をそのまま脱着操作に切り替えて、吸着された揮発性炭化水素を濃厚な揮発性炭化水素として脱着装置から系外に取り出すことからなる、揮発性炭化水素を含む排ガスの処理方法。
IPC (4件)：
B01D53/72 ,  B01D53/34 ,  B01D53/44 ,  B01D53/81
FI (3件)：
B01D53/34 120D ,  B01D53/34 ,  B01D53/34 117H
Fターム (20件)：
4D002AA34 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002CA13 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA46 ,  4D002EA04 ,  4D002EA06 ,  4D002EA07 ,  4D002EA08 ,  4D002FA01 ,  4D002GA01 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB05 ,  4D002GB06 ,  4D002GB11 ,  4D002HA02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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