特許
J-GLOBAL ID：200903019508154273

オゾン水製造設備

発明者：
下井 洋一

下井 洋一 について

, 
立石 泰弘

立石 泰弘 について


出願人/特許権者：
日鉄化工機株式会社

日鉄化工機株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228690
公開番号（公開出願番号）：特開2003-001075
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 オゾン水を製造するための吸収塔方式によるオゾン水製造設備で、供給されるオゾンを効率的に使用することができ、濃度の高いオゾン水の製造も可能な設備を提供する。また、被処理水とオゾンを効率的に反応させることが可能な処理設備を提供する。【解決手段】 ガス吸収部1の上部に水の導入口6と排ガスの出口7、該ガス吸収部1の下部にオゾン含有ガスの導入口4とオゾン水の取出し口5を備え、ガス相を連続相としたガス吸収部1のガス流れを、ガス流路の分割あるいは屈曲により、細長いガス流路、実質的に扁平なガス流路、あるいは実質的に分割されたガス流路の集合体を形成し、水とオゾン含有ガスとを向流接触させる吸収塔方式のオゾン水製造設備。吸収塔1内に導入された水の分散装置8および導入されたオゾン含有ガスの分散装置9を備えていることが望ましい。
請求項（抜粋）：
ガス吸収部の上部に水の導入口と排ガスの出口、該ガス吸収部の下部にオゾン含有ガスの導入口とオゾン水の取出し口を備え、ガス相を連続相としたガス吸収部のガス流れを、ガス流路の分割あるいは屈曲により、細長いガス流路、実質的に扁平なガス流路、あるいは実質的に分割されたガス流路の集合体を形成し、水とオゾン含有ガスとを向流接触させる吸収塔方式のオゾン水製造設備。
IPC (4件)：
B01F 1/00 ,  B01F 5/00 ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/78
FI (4件)：
B01F 1/00 A ,  B01F 5/00 D ,  C01B 13/10 D ,  C02F 1/78
Fターム (10件)：
4D050AA01 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13 ,  4G035AE19 ,  4G042CE01
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • オゾン水製造設備およびオゾン処理設備
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-377283   出願人：日鉄化工機株式会社
  • 特開平4-271809
  • 液体-蒸気接触塔
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-330718   出願人：ザ・ビーオーシー・グループ・インコーポレーテッド
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