特許

J-GLOBAL ID：200903023449667587

オゾン水製造設備およびオゾン処理設備

発明者： 下井 洋一 ,  合田 純一 ,  安達 太起夫 ,  田屋舘 利夫
出願人/特許権者： 日鉄化工機株式会社
代理人 (1件)： 伊東 彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-377283
公開番号（公開出願番号）：特開2000-167366
出願日： 1998年12月09日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【目的】 オゾン水を製造するための充填塔方式による新しいオゾン水製造設備で、高濃度のオゾン水製造が可能であり、供給されるオゾンを効率的に使用することができる設備を提供する。また、被処理水とオゾンを効率的に反応させることが可能なオゾン処理設備の提供である。【構成】 充填塔の上部に水の導入口と廃ガスの出口、該充填塔の下部にオゾンガスの導入口とオゾン水の取り出し口を備え、その間にガス逆流防止板で仕切られた充填塔を二つ以上設け、水とオゾンガスとを向流接触させる充填方式のオゾン水製造設備。および、基本的に上記製造設備と同様の装置構成で、被処理水とオゾンガスとを向流接触させるオゾン処理設備。充填塔内を加圧状態とすることも可能。

請求項（抜粋）：

充填塔の上部に水の導入口と排ガスの出口、該充填塔の下部にオゾンガスの導入口とオゾン水の取り出し口を備え、その間にガス逆流防止板で仕切られた充填層を二つ以上設け、水とオゾンガスとを向流接触させる充填塔方式のオゾン水製造設備。

IPC (3件)：

B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/78

FI (3件)：

B01F 1/00 A ,  B01F 3/04 A ,  C02F 1/78

Fターム (15件)：

4D050AA04 ,  4D050AA10 ,  4D050AA12 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BC02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AE13

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭55-003894
  
• 水処理
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-333064   出願人：ザ・ビーオーシー・グループ・ピーエルシー
• 充填塔式気液接触装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-259685   出願人：栗田工業株式会社
• オゾン接触反応塔
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-354017   出願人：東急車輛製造株式会社