特許
J-GLOBAL ID：200903019546582319
ガスバリアフィルムおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-124161
公開番号（公開出願番号）：特開2000-313087
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】従来よりも低温で、かつ丈夫なガスバリア層を有するガスバリアフィルムを提供することを目的とする。【解決手段】基材の少なくとも片面に、一般式R<SP>1</SP> <SB>x </SB>R<SP>2</SP> <SB>y </SB>R<SP>3</SP> <SB>z </SB>M(OR)<SB>m-</SB><SB></SB><SB>(x+y+z) </SB>(R<SP>1</SP> ,R<SP>2</SP> ,R<SP>3</SP> はアルキル基、あるいは各種官能基を有する炭化水素基。Rは一般的なアルキル基。Mは各種金属。mはMの価数、0≦x,y,z≦3、0<x+y+z<m)で表される金属アルコキシドまたはその加水分解物の開環反応物を含む層を設けたことを特徴とするガスバリアフィルムと、そのガスバリアフィルムを製造するための基材の少なくとも片面に金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む層を設け、さらにその際に電磁波を照射することによるガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
請求項（抜粋）：
基材の少なくとも片面に、一般式R<SP>1</SP> <SB>x </SB>R<SP>2</SP> <SB>y </SB>R<SP>3</SP> <SB>z </SB>M(OR)<SB>m-(x+y+z) </SB>(R<SP></SP><SP></SP><SP>1</SP> ,R<SP>2</SP> ,R<SP>3</SP> はアルキル基、あるいは各種官能基を有する炭化水素基。Rは一般的なアルキル基。Mは各種金属。mはMの価数、0≦x,y,z≦3、0<x+y+z<m)で表される金属アルコキシドまたはその加水分解物の開環反応物を含む層を設けたことを特徴とするガスバリアフィルム。
Fターム (24件)：
4F100AA05B
, 4F100AA17A
, 4F100AA18A
, 4F100AA19A
, 4F100AA20A
, 4F100AA21A
, 4F100AH02B
, 4F100AH06B
, 4F100AH08B
, 4F100AK01A
, 4F100AK42
, 4F100AS00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100EH462
, 4F100EH66A
, 4F100EJ522
, 4F100EJ532
, 4F100EJ542
, 4F100GB15
, 4F100GB23
, 4F100JD02
, 4F100JD03
, 4F100JL01
