特許
J-GLOBAL ID：200903019569063793

オルトメタル化イリジウム錯体の製造方法ならびに製造されたイリジウム錯体からなる発光材料

発明者：
今野 英雄

今野 英雄 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-228886
公開番号（公開出願番号）：特開2007-091718
出願日： 2006年08月25日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】ハロゲン化イリジウムまたは架橋ダイマーと、有機配位子とを反応させて、有機配位子が3つ配位したオルトメタル化イリジウム錯体を製造する方法において、脱ハロゲン化剤および塩基化合物を添加することなく、また、有機配位子をイリジウム原料に対して大過剰に用いることなく、高収率かつ高純度に製造でき、更には、フェイシャル体を選択的に製造することができる方法を提供する。【解決手段】ハロゲン化イリジウムと2-フェニルピリジン誘導体などの有機配位子とを反応させ、有機配位子が3つ配位したオルトメタル化イリジウム錯体を製造する方法において、有機配位子の物質量が、ハロゲン化イリジウムに対して3当量以上30当量未満とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ハロゲン化イリジウムと下記一般式(1)または(2)のいずれかで表される有機配位子とを反応させ、有機配位子が3つ配位したオルトメタル化イリジウム錯体を製造する方法において、該反応に用いる有機配位子の物質量が、ハロゲン化イリジウムに対して3当量以上30当量未満であることを特徴とするオルトメタル化イリジウム錯体の製造方法。
IPC (3件)：
C07F 15/00 ,  C09K 11/06 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
C07F15/00 E ,  C09K11/06 660 ,  H05B33/14 B
Fターム (19件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107BB03 ,  3K107CC04 ,  3K107CC21 ,  3K107CC45 ,  3K107DD64 ,  3K107DD67 ,  4H050AA02 ,  4H050BA95 ,  4H050BB14 ,  4H050BB31 ,  4H050BB61 ,  4H050BC10 ,  4H050BC31 ,  4H050WB11 ,  4H050WB14 ,  4H050WB21
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)

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