特許

J-GLOBAL ID：200903019592580290

プラズマ処理装置及び方法

発明者： 石井 信雄 ,  安藤 真 ,  高橋 応明 ,  八坂 保能
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  安藤 真 ,  高橋 応明 ,  八坂 保能
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-082769
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280367
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】 プラズマの生成効率の向上させる。【解決手段】 処理容器内に電磁界を供給するラジアルアンテナ30のスロット36が、ラジアルアンテナ30内における電磁界の波長λg の略N倍(Nは自然数)の間隔dの渦巻線上に配置されている。このラジアルアンテナ30の中心部から回転モードで電磁界を給電する。

請求項（抜粋）：

処理容器内に収容され被処理体が配置される載置台と、放射面にスロットが複数配置され前記処理容器内に電磁界を供給するラジアルアンテナとを備えたプラズマ処理装置において、前記ラジアルアンテナのスロットは、前記ラジアルアンテナ内における電磁界の波長の略N倍(Nは自然数)の間隔の渦巻線上に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B

Fターム (28件)：

4G075AA24 ,  4G075AA42 ,  4G075BA02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA25 ,  4G075CA42 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC01 ,  4G075EC30 ,  4G075EE01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4G075FC20 ,  5F004AA16 ,  5F004BB11 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA01 ,  5F045AA09 ,  5F045AB32 ,  5F045BB08 ,  5F045DP04 ,  5F045EH02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-262119
  
• 特開平1-184923
  
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-248767   出願人：東京エレクトロン株式会社